NCR脫硝技術氨耗量和氨逃逸的影響分析

    NCR脫硝技術氨耗量和氨逃逸的影響分析

    在脫硝反應過程中煙氣中存在著沒有參與反應的氨通過反應器排放到煙氣中的現象叫氨逃逸。氨逃逸可能會導致如下的幾個問題：易使下游裝置如空氣預熱器積灰堵塞，造成壓損升高以及低溫腐蝕等問題；影響飛灰的品質，導致電除塵器極線積灰或布袋除塵器糊袋等問題；形成可見煙柱，增加PM2.5的排放；釋放到大氣中會對人體健康帶來負面影響。

    所以，應用脫硝技術的目標是最大程度的降低NOx濃度，同時控制氨耗量，實現最小的氨逃逸。

    影響SNCR技術性能的主要因素包括：煙氣組成、煙氣量、氨氮摩爾比NSR值、反應溫度、處理前煙氣中NOx濃度、煙氣氧量、還原劑與煙氣的混合程度等。其中運行過程中影響氨耗量和氨逃逸最重要的3個因素是：反應溫度、還原劑與煙氣的混合程度和NSR值。

    分析儀采用TDLAS技術(可調諧半導體激光光譜吸收技術TunableDiodeLaserAbsorptionSpectroscopy)，為目前國際最先進的氣體測量方法之一，該儀表具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測量等特點，為實時準確地反映NH3變化提供了可靠保證。

    山東新澤儀器有限公司生產的TK-1100型氨逃逸在線監測系統采用高溫伴熱抽取技術+TDLAS技術(可調諧半導體激光光譜吸收技術），對脫硝過程中的逃逸氨進行連續在線監測，主要應用于眾多工業領域氣體排放監測和過程控制，如燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。

    產品特點：

    1.先進的可調諧半導體激光光譜吸收技術；
    2.可靠的長光程加熱氣室設計，光程可達760mm；
    3.超低濃度測量，分辨率可達0.1ppm；
    4.半導體激光的譜寬小于0.001nm，避免粉塵和水分交叉干擾；
    5.設備維護簡單，使用成本低。